Una settimana intensiva in provincia di Siena per approfondire le tecniche e l’arte della rappresentazione visiva dell’architettura e del paesaggio.
Quest’anno il tradizionale workshop estivo di approfondimento in fotografia e disegno, promosso dal Politecnico di Milano, si svolgerà nella cornice della splendida abbazia di Sant’Antimo, immersa nella Val d’Orcia (SI).
Dal 26 giugno al 2 luglio a Castelnuovo dell’Abate, vicino a Montalcino, i 12 partecipanti avranno la possibilità di approfondire tecniche di fotografia e disegno con docenti esperti del Politecnico di Milano, in una cornice naturale senza paragoni. Il workshop proporrà la rilettura della forma e dei significati degli elementi architettonici dell’Abbazia di Sant’Antimo, mettendo in luce il loro intrinseco legame con la configurazione dello spazio sacro e le condizioni del contesto paesaggistico e ambientale.
Una settimana aperta a professionisti e amatori del disegno e della fotografia, per immergersi in atmosfere da sogno, durante le 10 sessioni di lavoro -di cui una in notturna-, insieme a Corrado Maria Crisciani, docente di fotografia presso la facoltà del Design del Politecnico di Milano e a Luigi Cocchiarella, docente di Disegno alla Facoltà di Architettura e Società del Politecnico di Milano.
La gestione dei pasti sarà affidata ai ragazzi dell’Associazione Riabilita che frequentano il centro di socializzazione per persone con disagi psichici e psichiatrici Bellemme di Siena. Sono inoltre previste due cene in agriturismo, una gita alle terme e un’escursione opzionale al Palio di Siena.

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Cell: 347 1056890
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